FIS4 Ultraviolet Wavefront czujnik 200-400 nm

FIS4 Ultraviolet Wavefront czujnik 200-400 nm

.BojiongFIS4 UV czujnik front front 200-400 nm jest wyspecjalizowanym instrumentem zaprojektowanym do bardzo precyzyjnych pomiarów w 200–400 nm UV i głębokich pasm UV. Wykorzystując moduł wykrywania wzmocnionego UV i optyką oporną na UV, czujnik utrzymuje ultra-wysoką rozdzielczość przestrzenną 512 × 512 i lepszą niż dokładność pomiaru fazy 2NM RMS nawet przy krótkich długościach fal. Wykorzystanie zastrzeżonego losowo zakodowanego algorytmu ratowania i wysokiej wydajności,FIS4 UV Wavefront czujnikOferuje doskonałą odporność na interferencję, precyzyjną wydajność pomiaru i szeroką kompatybilność przemysłową, umożliwiając stabilne zastosowanie w różnych złożonych scenariuszach.

BojiongFIS4 UV czujnik front front 200-400 nm Wstęp

TOnBojiong  FIS4 Ultraviolet Wavefront czujnik 200-400 nm to nowa generacja naszej precyzyjnej inspekcji optycznej. Jest zgodny ze standardami systemu zarządzania jakością ISO 9001 i jest certyfikowany przez China Institute of Metrology (NIM). Ma roczną gwarancję jakości. . FIS4 UV czujnik front frontowychWykorzystuje unikalną strukturę interferometru wspólnego ścieżki UV i wysokowyd-dynamiczny projekt optyczny, co skutkuje doskonałą odpornością na wibracje i stabilność. Bez dodatkowych pomiarów izolacji wibracji dostarcza wysoce powtarzalne i niezawodne pomiary w wymagających aplikacjach, takich jak kalibracja optyczna maszyny litograficznej, mikroobrazowanie UV i testy biochemiczne. Działanie wtyk i gry zapewnia łatwe działanie i konserwację.

BojiongFIS4 UV czujnik front front 200-400 nm Parametr (specyfikacja)

BojiongFIS4 UV czujnik front front 200-400 nm Funkcja i aplikacja

Od 2006 r. Zespół profesora Yang Yongaing na Uniwersytecie Zhejiang poświęcił 17 lat na rozwój serii FIS4 o szerokim spektrumczujniki frontowe, w oparciu o architekturę interferometrii wspólnej ścieżki i algorytmów rekonstrukcji Wavefront w czasie rzeczywistym. Czujniki oferują następujące kluczowe funkcje:

· Nie wymaga izolacji wibracji optycznej, zapewniając silną zdolność adaptacji środowiska

· Do 2NM RMS RMS Faza dla wyjątkowej dokładności

· Pojedyncza konstrukcja ścieżki optycznej eliminuje potrzebę światła referencyjnego, umożliwiając operację wtyk i gry

· Kompaktowa konstrukcja dla łatwej integracji i wdrażania

.FIS4 Ultraviolet Wavefront czujnik 200-400 nmjest przeznaczony do zastosowań w precyzyjnym przetwarzaniu optycznym, obronie i produkcji półprzewodników. Przy wysokiej rozdzielczości 512 × 512 (262,144) punktów fazowych, szeroką odpowiedź spektralną od 200–400 nm i 10-klamującą wyświetlacz 3D w pełnej rozdzielczości, zapewnia wysoce niezawodne rozwiązanie czujnika frontowego dla zastosowań, takich jak pomiar aberracji układu optycznego, pomiar aberracji układu optycznego, optyczne.

BojiongFIS4 UV czujnik front front 200-400 nm Aplikacja

BojiongFIS4 UV czujnik front front 200-400 nm Bliższe dane

. FIS4 Ultraviolet Wavefront czujnik 200-400 nmopiera się na opatentowanej technologii losowo zakodowanej dyfrakcji czterech fali, umożliwiając prawdziwy pomiar samokontroli pojedynczej wiązki. Technologia ta znacznie upraszcza strukturę ścieżki optycznej i obsługuje nie tylko źródła światła laserowego, ale także źródła światła o szerokiej widma, takie jak diody LED i lampy halogenowe.FIS4 UV Wavefront czujnik ma doskonałą odporność na zakłócenia środowiska i może osiągnąć stabilny pomiar z precyzją nanoskali w zwykłych środowiskach eksperymentalnych bez urządzeń izolacyjnych wibracji. W porównaniu z czujnikami Hartmanna na podstawie macierzy mikrolensów,FIS4 UV Wavefront czujnik Osiąga znaczącą poprawę w wielu wymiarach wydajności: wyższa rozdzielczość punktów fazowych (do 262 144 punktów), szerszy zakres adaptacji spektralnej, większy zakres dynamiczny pomiaru i oczywiste zalety w zakresie kompleksowej wydajności kosztów.

Ryc.

Ryc. 2. Rekonstrukcja frontu fali kwadratowej z czterech fal bocznych interferogramów ścinania

.FIS4 FALEFRONT Senser pojawił się jako potężne i wysoce wszechstronne narzędzie precyzyjne w badaniach naukowych i inspekcji przemysłowej, ze względu na swoją zwartą strukturę, wysoką solidność środowiska, doskonałą rozdzielczość czasową i silną zgodność z istniejącymi systemami mikroskopii. Początkowo był wykorzystywany przede wszystkim w tradycyjnych scenariuszach testowania warsztatów optycznych, w tym profilowanie powierzchni elementów optycznych, ocenę jakości wiązki laserowej i korekcję systemu optyki adaptacyjnej. Obecnie zakres zastosowania znacznie się rozszerzył, obejmując różnorodne najnowocześniejsze pola, takie jak obrazowanie biomedyczne, lokalizacja nanocząstek, charakterystyka metasurface, a nawet pomiar gradientu temperatury.

.Czujnik FIS4 Frontfront Zawiera wysoce zintegrowaną konstrukcję, umożliwiając łatwą integrację z różnymi platformami mikroskopowymi do szybkiego wdrażania. Jest doskonałą wydajność antywibracyjną zapewnia stabilną dokładność pomiaru interferometrycznego i powtarzalność nawet w trudnych środowiskach. Urządzenie obsługuje akwizycję Wave-Front pojedynczych ekspozycji, niezawodnie wychwytując szybkie procesy dynamiczne dla przejściowych badań zjawisk. W zastosowaniach biomedycznych FIS4 z powodzeniem umożliwił bez etykiety obrazowanie w czasie rzeczywistym w czasie rzeczywistym w czasie rzeczywistym-w tym komórek COS-7, HT1080, RPE, CHO, HEK i neuronów-co stanowi potężne narzędzie do badań dynamiki komórek.

PonadtoCzujnik FIS4 Frontfront Obsługuje obrazowanie opóźnienia fazowego, które może generować obrazy o wysokim kontraście anizotropowych tkanek biologicznych i struktur subkomórkowych, takich jak włókna kolagenowe i sieci cytoszkieletowe. Ta technologia nie ogranicza się do widzialnego pasma świetlnego, ale została rozszerzona na obrazowanie fazowe w fazie obrazowania fazowego w rentgenowskiej, średniej części infrlacji (MWIR) i długoterminowej (LIR), demonstracyjnej, demonstracyjnej. W badaniach wielokrotnego i interdyscyplinarnych. W ostatnich latach,    Czujnik FIS4 Frontfront znalazł także ważne zastosowania w badaniach nowych materiałów, takich jak modulacja metasurface i charakterystyka właściwości optycznych materiałów dwuwymiarowych, w pełni odzwierciedlając jego różnorodne wartości i potencjał w dziedzinach zaawansowanej optyki i materiałów materiałowych.